گوشواره گیلاس

دانلود پرسشنامه , پرسشنامه های روانشناسی , پرسشنامه مدیریت , سایت پرسشنامه, پرسشنامه های استاندارد

گوشواره گیلاس

دانلود پرسشنامه , پرسشنامه های روانشناسی , پرسشنامه مدیریت , سایت پرسشنامه, پرسشنامه های استاندارد

دانلود مقاله رسوب دهی لایه های نازک سخت ویا نرم 30 ص

دانلود مقاله رسوب دهی لایه های نازک سخت ویا نرم 30 ص

دانلود-مقاله-رسوب-دهی-لایه-های-نازک-سخت-ویا-نرم-30-صلینک دانلود و خرید پایین توضیحات
دسته بندی : وورد
نوع فایل :  word (..doc) ( قابل ویرایش و آماده پرینت )
تعداد صفحه : 47 صفحه

 قسمتی از متن word (..doc) : 
 

‏2
‏رسوب دهی لایه های نازک سخت ویا نرم
‏مقدمه
‏مورفولوژی یک پوشش بطور عمده به فناوری بکار گرفته شده بستگی دارد. بطور کلی روشهایی که در آن پوشش از فاز بخار رسوب داده می‏‌‏شوند. را می‏‌‏توان دو گروه اصلی تقسیم کرد روش رسوب شیمیایی بخار CVD‏ و روش رسوب فیزیکی PVD‏ بعلاوه از روشهایی به نام روشهای کمکی یا تحریک شده نیز استفاده می‏‌‏شود. بعنوان مثال روش کمکی پلاسمای رسوب شیمیایی بخار PA-CVD‏ یا فرآیندهای دما توسط مانند روش دما متوسط CVD‏ که با MT-CVD‏ نمایش داده می‏‌‏شود نیز گسترش پیدا کرده است. همانطور که در شکل 5.1 نشان داده شده است بعنوان مثال به روشهای فوق مواردی مثل پرایدهای نسوز، کارمیدها، نیتریدها ،اکسیدها وترکیب های مختلفی از این گونه پوششها را میتوان رسوب داد.
‏2
‏5.2 روشهای رسوب شیمیایی بخار
‏5.2.1 طبقه بندی فناوریهای CVD
‏در روش رسوب شیمیایی بخار واکنش کننده ها بصورت گاز تامین شده و واکنشهای شیمیایی در اثر گرما در سطح زیر لایه گرم شده انجام می‏‌‏شوند. در روشهای CVD‏ معمولا فرآیند در درجه ر600 تا 1100 درجه سانتیگراد انجام می‏‌‏شود هزینه فرآیندهایی که در درجه وارستای پایین تر نیز کار می کنند بکار گرفته شده است. در جدول 5.1 می‏‌‏توان روشهایی از CVD‏ که بیشتر در صنعت ارز برش بکار می رود را ملاحظه کرد.
In‏ به شکل سنتی خود فناوری CVD‏ بدون فرآیندهای کمکی در فشار محیط مثل پوشش دهی در فشار محیط APCVD ,CVD‏ یا در فشار پایین مثل پوشش دهی به فشار کم

 

دانلود فایل

نظرات 0 + ارسال نظر
امکان ثبت نظر جدید برای این مطلب وجود ندارد.